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時間:2025-01-09 11:17:50
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半導體行業中含銅廢水是其中比較常見的一種廢水,目前半導體生產含銅廢水處理方法大多是委外或者單獨處理,下面伏嘉環境為您介紹一種這類工業廢水處理的方法。
半導體生產含銅廢水進入反應池1,投加質量濃度10%的FeSO4溶液與半導體生產含銅廢水中的雙氧水反應,對絡合銅進行氧化破絡,同時Fe2+直接將絡合態的銅進行置換,反應時間25~30min,FeSO4的加藥量為進水中總銅質量的5~10倍。
反應池1出水溢流進入反應池2,向反應池2中投加氫氧化鈣溶液,以維持反應池2的pH為9~12,當系統運行至斜板沉淀池底部污泥量達到污泥回流量時,反應池2中停止投加氫氧化鈣溶液,污泥回流系統啟動,在斜板沉淀池底部管道混合器進口處投加氫氧化鈣溶液,廢水與斜板沉淀池回流的含鈣改質污泥發生反應,通過控制反應池2的pH為9~12來反饋控制氫氧化鈣的投加量,廢水在反應池2中停留時間控制在10~20min。
反應池2出水進入反應池3,加入重捕劑進行鰲合反應,產生含銅鰲合沉淀,進而將絡合態的銅進一步去除,反應時間為15~20min,重捕劑投加量為反應池1進水中總銅質量的3~5倍.
反應池3反應結束后,廢水進入反應池4,投加聚丙烯酰胺溶液進行絮凝反應,緩慢攪拌,反應時間5~10min,聚丙烯酰胺的加藥量為3~5mg/L。
污泥進入斜板沉淀池進行泥水分離,一部分污泥通過排泥泵輸送至污泥儲槽,另一部分污泥通過回流泵輸送至管道混合器,氫氧化鈣與回流污泥在管道混合器中混合均勻,形成高密度污泥,回流污泥進入反應池2與廢水進行反應。
采用這種半導體生產含銅廢水處理方法工藝簡單,用藥量少,減低處理成本。如果您對半導體生產含銅廢水處理還有什么疑問,歡迎咨詢伏嘉環境工程師。
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